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文件名称:探秘LTCC用硼硅玻璃及生瓷带:从制备工艺到性能突破.docx
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总页数:20 页
更新时间:2025-12-27
总字数:约2.49万字
文档摘要
探秘LTCC用硼硅玻璃及生瓷带:从制备工艺到性能突破
一、引言
1.1研究背景与意义
随着现代电子技术的飞速发展,电子产品不断朝着小型化、轻量化、高性能和高可靠性的方向迈进。在这一趋势下,低温共烧陶瓷(LowTemperatureCo-firedCeramic,LTCC)技术应运而生,成为实现电子元件高密度集成的关键技术之一。LTCC技术起源于20世纪80年代,最初是为了满足军事和航空航天领域对高可靠性、小型化电子元件的需求而研发,随后逐渐在通信、汽车电子、消费电子等众多领域得到广泛应用。
LTCC技术的核心在于将低温烧结陶瓷粉制成厚度精确且致密的生瓷带,在生瓷带上通过激光