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2026年最新集成电路专业单招考试真题及答案

一、单项选择题（总共10题，每题2分）

1.集成电路制造过程中，哪一步是形成电路图案的关键步骤？

A.晶圆清洗

B.光刻

C.氧化

D.扩散

答案：B

2.在CMOS电路中，PMOS和NMOS晶体管的互补特性主要利用了哪种效应？

A.霍尔效应

B.耦合电容效应

C.饱和效应

D.跨导效应

答案：D

3.集成电路的功耗主要受以下哪个因素影响最大？

A.工作频率

B.电路尺寸

C.电压等级

D.温度

答案：C

4.在集成电路设计中，逻辑门级的优化主要目的是什么？

A.提高电路速度

B.降低功耗

C.增加电路密度