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文档摘要

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恒流源电路基本电流镜结构电流复制的基本原理：工作在饱和区的两个相同MOS器件（相同的工艺参数）具有相同栅源电压；其漏极电流完全相等实际电路中由于存在沟道调制效应时，漏源电压VDS若不相等，则其电流不相等。基本电流镜结构在考虑沟道调制效应时有：从上式可以看出：若已有IR，只要改变M1与M2的宽长比，就可设计出Io，该结构即为比例电流镜，这种技术有着广泛的应用，如:放大器的负载。但是由于存在沟道调制效应，且VDS2是一变量，因此Io实际上不是一个恒流源。基本电流镜结构改善Io的恒流特性以实现真正意义上的电流源，原则上有两种方