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光刻工艺与微电子制造

光刻工艺概述

光刻工艺（Photolithography）是微电子制造中的一项关键技术，用于将设计图案精确地转移到半导体晶圆上。这一过程涉及使用光敏材料（光刻胶）和光学系统，通过曝光、显影、刻蚀等步骤，将掩膜上的图案复制到晶圆表面。光刻工艺的精度和可靠性直接影响了集成电路的性能和良品率。

光刻工艺的基本步骤

涂覆光刻胶：将光刻胶均匀地涂覆在晶圆表面。

前烘：对涂覆后的光刻胶进行预热处理，以去除溶剂并提高光刻胶的附着力。

曝光：使用光学系统将掩膜上的图案投射到光刻胶上，使光刻胶发生化学反应。

显影：将曝光后的光刻胶进行化学处理，去除未