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文件名称：制造工艺仿真：光刻仿真_（5）.分辨率增强技术.docx
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总页数：16 页
更新时间：2025-12-30
总字数：约1.27万字
文档摘要
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分辨率增强技术
在光刻仿真领域，分辨率增强技术（ResolutionEnhancementTechniques,RET）是提高光刻工艺分辨率的关键手段。这些技术旨在通过各种方法优化光刻过程，以实现更小、更精确的特征尺寸。本节将详细介绍几种常见的分辨率增强技术，包括光学邻近效应校正（OpticalProximityCorrection,OPC）、离轴照明（Off-AxisIllumination,OAI）、相移掩模（Phase-ShiftingMasks,PSM）、多重曝光（MultiplePatterning）等，并提供具体的仿真操