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文件名称:镱掺杂氧化锌稀磁半导体薄膜:制备工艺与性能关联的深度剖析.docx
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总页数:19 页
更新时间:2026-01-01
总字数:约2.54万字
文档摘要
镱掺杂氧化锌稀磁半导体薄膜:制备工艺与性能关联的深度剖析
一、引言
1.1研究背景与意义
随着信息技术的飞速发展,对半导体材料性能的要求不断提高。稀磁半导体(DilutedMagneticSemiconductors,DMS)作为一种新型功能材料,将半导体特性与磁性相结合,展现出许多独特的物理性质,如磁光效应、磁电效应和自旋相关输运特性等,在磁存储、自旋电子学和光电器件等领域具有广阔的应用前景,因此受到了科研人员的广泛关注。
稀磁半导体是指在传统半导体中引入磁性离子,使其同时具有半导体的电学特性和磁性材料的磁学特性。这种材料的出现,打破了传统半导体和磁性材料之间的界限,为实现多功能集成