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文件名称：集成电路制造工艺 课件 3.1 光刻工艺的基本原理.pptx
文件大小：3.72 MB
总页数：8 页
更新时间：2026-01-04
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文档摘要
集成电路制造工艺
--光刻工艺的基本原理单位：江苏信息职业技术学院微电子教研室
光刻胶第三章光刻工艺光刻的工艺流程本章要点先进光刻工艺介绍光刻工艺的基本原理
光刻胶第三章光刻工艺光刻的工艺流程本章要点先进光刻工艺介绍光刻工艺的基本原理
§3.1光刻工艺的基本原理一、光刻的重要性光刻工艺是一种非常精细的表面加工技术，器件的横向尺寸控制几乎全由光刻来实现。因此，光刻的精度和质量将直接影响器件的性能指标，同时它们也是影响器件成品率和可靠性的重要因素。光刻工艺常被认为是集成电路生产制造中最为关键和重要的步骤，需要高性能以便结合其他工艺获得高成品率。
§3.1光刻工艺的基本