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第六章平坦化

1.说明平坦化在VLSI中的作用及主要的平坦化方式。

答：1）作用：可以允许光刻工艺采用更高的分辨率；可以消除由于PVD台阶覆盖性差引起的边墙减薄；消除介质层工艺中的厚光刻胶区域，不再需要过度曝光和显影，改善金属图形工艺和通孔工艺的分辨率；可以使薄膜淀积均匀化，消除了过刻蚀的必要性，减小了衬底损伤和钻蚀的可能性；还可以减少缺陷密度，提高成品率。

2）平坦化方式：反刻、回流、旋涂玻璃法（SOG）、化学机械抛光（CMP）。

2.简要描述SOG工艺。

答：它是在硅片上旋涂不同的液体材料以获得平坦化的一种技术。例如将介电材料溶解在某些有机溶液中，然