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文件名称:集成电路制造工艺 课件 2.5 外延生长.pptx
文件大小:2.71 MB
总页数:23 页
更新时间:2026-01-04
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文档摘要

集成电路制造工艺

----外延生长;;;2)外延在半导体生产中的作用;目前主要采用的四氯化硅氢还原法;2.外延生长工艺

1)气相外延的设备;外延生长炉结构图;外延生长过程中,同时掺入一定量的三价或者五价杂质原子,控制掺入的气相杂质类型和流量就可以控制外延层的导电类型和电阻率。;2)外延生长工艺流程;掺杂浓度均匀并符合设计要求;1)外延层掺杂浓度的控制