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文件名称:高介电含脲基聚氨酯薄膜的制备及性能研究.pdf
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总页数:87 页
更新时间:2026-01-06
总字数:约13.24万字
文档摘要
摘要
电子器件小型集成化发展使传统介电材料难满足现代设备要求,聚合物因质
轻、易加工和耐击穿成研究热点,但低介电常数限制其在高介电领域应用。聚氨
酯有高介电常数等特性,应用广泛,然而传统PU电击穿强度低,限制其在高储
能领域应用。为此,本文通过分子设计,用4,4’-二氨基二苯醚(ODA)将脲基引入
PU骨架,以含ODA的PU薄膜为基体,选聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)和1,3,5-
三(4-氨基苯氧基苯)即(135TAPOB)为改性剂,经物理共混和化学交联等改性,制
备高介电、高