基于相位偏移干涉术的薄膜厚度测量方法：原理、应用与优化

一、引言

1.1研究背景与意义

在现代科技迅猛发展的浪潮中，薄膜作为一种关键材料，在电子、光学、材料、生物医学等众多领域都占据着举足轻重的地位，发挥着不可或缺的作用。在电子领域，薄膜被广泛应用于集成电路制造，是实现电子器件小型化、高性能化的核心要素之一。例如，在超大规模集成电路中，栅极氧化层薄膜的厚度对晶体管的性能有着决定性影响，其厚度的精确控制直接关系到芯片的运行速度、功耗以及稳定性。若栅极氧化层薄膜过厚，会导致晶体管的导通电阻增大，从而增加芯片的功耗并降低运行速度；反之，若薄膜过薄，则可能引发漏电现象，影响芯片的可靠性。在光学领域