全球市场研究报告

半导体POU纯化器是安装在工艺设备用气端口“最后一段管路”上的高纯气体末端净化装置，用于在气体

进入单台机台（如刻蚀机、CVD、ALD、曝光机等）之前，将微量杂质（如H?O、O?、CO/CO?、HC、卤素、

金属杂质等）进一步降到ppb–ppt甚至更低水平。它通常串联在洁净干燥空气CDA、N?、Ar、H?以及各

类特气的供气管线上，内部通过金属吸附剂、分子筛、高比表面积多孔材料或贵金属催化剂等实现化学吸

附、物理吸附或催化分解，并配合超洁净内表面处理与低颗粒设计，将上游集中供气系统和管路可能带来的

微量污染、波动“拦截在机台前