基本信息
文件名称:半导体厂务项目工程管理 课件 项目10 废水系统.pptx
文件大小:9.39 MB
总页数:52 页
更新时间:2026-01-09
总字数:约2.82千字
文档摘要

半导体厂务项目工程管理

项目十

废水系统

任务10-1废水的种类

1.研磨废水

来源:研磨过程、抛光过程、清洗过程等等。。

研磨废水中含有大量的未反应的磨料颗粒(如碳化硼、金刚石、二氧化硅等微米级颗粒)以及从被加工材料表面磨削下来的微小颗粒,以及含有多种添加剂成分:研磨液和抛光液中的表面活性剂、分散剂、pH调节剂等有机成分。

2.含氟废水

来源:含氟化合物、含氟清洗剂等等。。

高浓度氟离子????处理过程复杂

氟化物强腐蚀????耐腐蚀材料

高毒性??????氟离子浓度控制

3.有机废水

来源:有机溶剂和化学物质、清洗剂等等。。

特点:

成分十分复杂

高度毒性