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文件名称:半导体厂务项目工程管理 课件 项目5 任务5-1 一般废气处理系统.pptx
文件大小:8.12 MB
总页数:11 页
更新时间:2026-01-09
总字数:约1.2千字
文档摘要
半导体厂务项目工程管理
项目五排气系统的设计与维护
任务5-1一般废气处理系统
任务5-1一般废气处理系统在半导体器件的制造过程中,需历经诸多复杂的工艺流程。这些流程中使用的药品和气体种类繁多,总数可达数十种,其中包括有毒、有害及具有爆炸危险性的物质。例如,在光刻、蚀刻及清洗环节,会产生酸碱废气;光刻工艺的清洗步骤则会释放有机溶剂废气;而在氧化、扩散和溅镀等工艺过程中,则会产生有毒气体。这些化学材料在密闭空间内使用完毕后,必须通过专业的废气处理排放设施安全地排出室外,并在排放端实施无害化处理,以确保室外环境空气的清洁与安全。因此,废气处理设备在半导体产业制造流程中占据着举足轻重的地位。【