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文件名称:半导体厂务项目工程管理 课件 项目4 任务4.2 工艺真空系统.pptx
文件大小:17.92 MB
总页数:17 页
更新时间:2026-01-09
总字数:约1.82千字
文档摘要

半导体厂务项目工程管理

项目四动力系统的设计与维护

任务4-2真空系统

任务4-2真空系统【任务背景】什么叫做真空呢?真空与大气压对比真空是低于大气压的气体状态,大气压是地球表面空气柱产生的压力。

真空环境气体分子密度低,分子间距离大,与大气压下分子密集状态形成鲜明对比。真空中的分子行为真空中气体分子自由程长,碰撞频率低,运动轨迹近乎直线。

分子运动特性使真空在物理实验和工业应用中能减少气体干扰,如电子束焊接。真空的相对性绝对真空不存在,实际真空是相对的,可通过抽气等方式降低气体压强。

不同应用场景对真空度要求不同,如实验室高真空与工业粗真空差异大。

任务4-2真空系统【任务背景