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文件名称:氮化硅薄膜及多层膜光性能的深度剖析与前沿探索.docx
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总页数:37 页
更新时间:2026-01-11
总字数:约3.35万字
文档摘要
氮化硅薄膜及多层膜光性能的深度剖析与前沿探索
一、引言
1.1研究背景与意义
在当今科技飞速发展的时代,光电器件在众多领域发挥着至关重要的作用,从日常的电子设备到高端的科研仪器,从通信领域到能源领域,光电器件的身影无处不在。而氮化硅薄膜及多层膜作为光电器件中的关键材料,其性能的优劣直接影响着光电器件的性能和应用范围。
氮化硅(Si_3N_4)是一种由硅和氮元素组成的化合物,具有多种优异的性能。在机械性能方面,它硬度高,是世界上最坚硬的物质之一,这使得氮化硅薄膜能够在各种需要耐磨的机械部件上发挥重要作用,如轴承、齿轮等;同时,它还具备高强度和良好的耐磨性,能够承受较大的机械负荷,延长部件的使