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文件名称：大陆半导体光阻材料概况继续研发更耐热的光阻剂.docx
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更新时间：2026-01-15
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文档摘要
大陆半导体光阻材料概况：继续研发更耐热的光阻剂
2014-05-0814:14:39
导读:半导体业新的技术不断出现，也推动着材料技术不断向前演进。半导体制程正朝向更细线宽方面发展，持续开发I-Line高解析的光阻剂(EPI626、膜厚1μm，解析度0.35μm)是市场的需求趋势。此外，为了符合离子植入制程阶段的温度条件，材料厂商将开发耐热性更佳的光阻剂，以提升产品竞争力。
OFweek网讯：半导体材料作为微电子和光的基础材料，它的发展十分引人关注。特别是如今半导体技术已经从微米进步到纳米尺度，微电子更恰当的称谓应是“纳米电子”，对半导体材料性能也将有更新的需求。
中国大陆市场规模将进一步