基本信息
文件名称：HITACHI日立离子研磨仪IM4000说明书.pdf
文件大小：786.86 KB
总页数：3 页
更新时间：2026-01-18
总字数：约1.39千字
文档摘要
Application
日立离子研磨仪IM4000在OLED领域的
应用
传统的TFT-LCD制造过程中，主要的工艺过程分为三部分：ARRAY（阵列）工
程、CELL（成盒）工程和MOUDLE（模组）工程，其中ARRAY生产中的缺陷的控制
尤为重要，使用日立的离子研磨仪IM4000的截面加工效果优异，独特的离子束汇聚
的离子枪设计及样品摆动