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电流强度对钛基微弧氧化膜结构和性能的影响

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此实验运用具有一定优势的微弧氧化工艺（MAO），通过改变不同参数设置，对TC4钛合金表面进

行处理，3A/5A的电流强度条件下，氧化时间分别为2min/5min/10min.为能够精准正确的分析出薄

膜的微结构和组成相，选用扫描电子显微镜、X射线衍射仪，实验中使用了电化学仪器进行对膜层抗

腐蚀能力进行测试（开路电位、交流阻抗曲线测试、塔菲尔极化曲线），除此之外，还对膜的抗磨损

性能进行了一系列测试。通过结果得到：进性MAO处理的TC4钛合金，所得膜层摩擦因数是高于基体

的，膜层摩擦时可能会发生脆性断裂的现象，耐磨