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文件名称：用于抛光多晶硅的化学机械抛光液2.doc
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总页数：2 页
更新时间：2026-01-23
总字数：约1.79千字
文档摘要
用于抛光多晶硅的化学机械抛光液
原料配比
原料
配比（质量份）
1#
2#
3#
4#
5#
6#
7#
8#
9#
研
磨
颗
粒
SiO2
1
1
1
－
－
－
－
－
－
Al2O3
－
－
－
0.1
2
－
－
－
－
ZrO2
－
－
－
－
－
4
7
－
－
CeO2
－
－
－
－
－
－
－
10
13
加
速
剂
2-膦酸丁烷-1,2,4三羧酸
0.5
－
－
－
－
－
－
－
－
羟基乙叉二膦酸
－
0.5
－
－
－
－
－
－
－
2-羟基膦酰基乙酸
－
－
0.5
－
－
－
－
－
－
2-膦酸丁酸
－
－
－
0.01
－
－
－
－
－
2-膦酸乙酸