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文件名称:用于抛光多晶硅的化学机械抛光液 (2).doc
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总页数:2 页
更新时间:2026-01-23
总字数:约1.15千字
文档摘要

用于抛光多晶硅的化学机械抛光液

原料配比

原料

配比(质量份)

1#

2#

3#

4#

5#

6#

研磨颗粒

二氧化铈

0.5

覆盖铝的二氧化硅

30

聚甲基丙烯酸甲酯

10

三氧化铝

2

二氧化钛

10

掺杂铝的二氧化硅

10

季铵盐型阳离子表面活性剂

苯二亚甲基-双(八烷基二甲基氯化铵)

0.1

三乙氧基-双(十八烷基二乙基溴化铵)

0.1

聚亚甲基(30)-双(十六烷基二乙基溴化铵)

0.0001

四亚甲基