基本信息

---

下载

文档摘要

---

抛光低介电材料的抛光液

原料配比

原料

配比（质量份）

1#

2#

3#

4#

二氧化硅（70nm）

4

4

4

4

苯并三唑

0.1

0.1

－

－

酒石酸

－

0.4

－

－

5-氨基四氮唑

0.05

－

0.1

0.1

5-甲基四氮唑

－

－

0.05

0.05

1,2,4三氮唑

－

0.05

－

－

双氧水

－

－

0.3

－

聚丙烯酸阴离子表面活性剂

－

－

－

0.2

制备方法将各组分简单混合均匀，之后采用PH调节剂调节至合适PH值，即可制得。

原料配伍本品各组分质量份配比范围为：二氧化硅2~15、混合缓蚀剂0.04~1、速率增助剂0.1~1、氧化剂0.05~1、表面活