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文件名称：用于化学机械研磨的抛光液.doc
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总页数：4 页
更新时间：2026-01-23
总字数：约3.54千字
文档摘要
用于化学机械研磨的抛光液
原料配比
原料
配比（质量份）
1#
2#
3#
4#
5#
6#
7#
8#
9#
研磨颗粒
SiO2（30nm）
0.1
－
－
－
－
－
－
－
－
SiO2（200nm）
－
6
－
－
－
－
－
－
－
Al2O3（120nm）
－
－
10
－
－
－
－
－
－
Al2O3（150nm）
－
－
－
10
－
－
－
－
－
ZrO2（100nm）
－
－
－
－
5
－
－
－
－
ZrO2（90nm）
－
－
－
－
－
－
10
－
－
CeO2（100nm）
－
－
－
－
－
4
－
－
－
SiC（100nm）
－
－
－
－
－
－