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文档摘要

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用于砷化镓晶片的抛光液

原料配比

原料

配比（质量份）

1#

2#

CeO2磨料，粒径100~120nm

40

－

水溶硅溶胶磨料，粒径为60~80nm

－

750

四羟基乙基乙二胺

4

－

EDTA

－

30

氢氧化钾

4

60

脂肪醇聚氧乙烯醚

1

－

烷基醇酰胺

－

15

去离子水

余量

余量

制备方法首先将制备抛光液的各种组份分别进行过滤净化处理，然后在千级净化室的环境内，将各种组份在真空负压的动力下，通过质量流量计输入容器罐中并充分搅拌，混合均匀即可。

原料配伍本品各组分质量份配比范围为：磨料40~750、螯合剂4~30、表面活性剂1~15、PH调节剂4~60、去离子水余