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《原子层沉积（ALD）术语》标准立项与发展研究报告

EnglishTitle:ResearchReportontheStandardizationProjectandDevelopmentof“AtomicLayerDeposition(ALD)—Vocabulary”

摘要

本报告旨在系统阐述《原子层沉积（ALD）术语》国家标准（或行业标准）立项的背景、目的、意义、范围及主要技术内容，并对标准制定工作提出展望。原子层沉积（ALD）作为一种具有自限制生长特性的先进薄膜制备技术，凭借其原子级厚度控制、优异的三维保形性及良好的均匀性等核心优势，已在半导体集成电路