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摘要

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氧化铈抛光材料由于其优异的物理化学性能在化学机械抛光（CMP）领域

得到了广泛应用。随着CMP加工对精度和表面质量的控制越来越严格，对磨粒

也提出了更高要求。特别是在集成电路制造等高端应用领域，不仅要使用纳米

级氧化铈磨粒，而且对磨粒的纯度有较高要求。作为氧化铈粒的前驱体，稀土

碳酸盐的形态结构、杂质含量直接影响最终粒的物性指标。

本研究以氯化铈为原料，碳酸氢铵为沉淀剂，在中温高配比条件下合成扫

帚状铈