基本信息

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文档摘要

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探秘二维纳米材料：解锁自旋注入的微观世界与应用新篇

一、引言

1.1研究背景与意义

在当今数字化时代，芯片作为信息技术的核心，其性能的提升对于推动整个科技领域的发展至关重要。自半导体器件诞生以来，以硅基材料为基础的芯片技术遵循摩尔定律，实现了飞速发展，使得集成电路上的晶体管数量每隔18-24个月便增加一倍，芯片的性能也随之大幅提升。然而，随着晶体管尺寸不断缩小至纳米尺度，传统芯片技术逐渐面临着诸多严峻的挑战。

从制造工艺角度来看，光刻技术作为芯片制造的关键步骤，传统的光刻技术正逐渐接近其物理极限。当晶体管的尺寸缩小到10纳米以下，极紫外光刻（EUV）技术虽被视为突破瓶颈的希望，但