摘要

电子级溶剂作为集成电路、光伏电池等高端制造领域的关键辅助材料，其纯

度直接影响微电子器件的良率和性能。随着半导体工艺节点进入3nm以下，对

溶剂中金属离子的要求已提升至ppb级。然而，对于四甲基氢氧化铵（TMAH）、

N,N-二甲基甲酰胺（DMF）、二甲基亚砜（DMSO）这类具有强碱性、高极性以

及强配位性的溶剂体系而言，传统吸附材料在净化其中痕量金属离子方面存在局

限性，难以达到相应的净化要求。本研究针对溶剂化效应、金属形态多变及材料

稳定性不足等核心问题，提出“动态电荷适配-