高灵敏度流量计式位移检测系统：光刻自动聚焦的关键技术与应用突破

一、引言

1.1研究背景与意义

在现代科技飞速发展的时代，半导体制造作为信息技术产业的核心基石，其技术水平直接决定了电子产品的性能、功耗和成本。光刻技术作为半导体制造过程中的关键环节，如同工匠手中的精细刻刀，在极小的尺度上进行着微观世界的雕琢，将设计好的电路图案精确地转移到半导体材料表面的光刻胶上，从而实现芯片的制造。随着电子产品朝着更小尺寸、更高性能、更低功耗的方向不断演进，对芯片集成度的要求也越来越高。而光刻技术的精度，在很大程度上决定了芯片能够集成的晶体管数量和尺寸，进而影响着芯片的性能。例如，从早期的微米级芯片到如今的纳