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摘要

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电磁屏蔽是保障电子设备电磁兼容性的核心方法，通过抑制电磁干扰（EMI）

传播，显著提升系统的可靠性及抗扰度；金属腔体作为电磁屏蔽的主要手段，屏蔽

效能直接影响电子设备的抗电磁干扰能力。近年来，基于电磁拓扑理论与BLT方

程的屏蔽特性分析方法因其高效性与适应性受到广泛关注，但屏蔽效能计算模型

复杂，复杂开孔形状对屏蔽效能的影响还需要进一步研究。本文基于电磁拓扑理论，

建立了拓展BLT方程在复杂开孔、孔阵、