磁控阴极伏-安特性：解锁TiN镀层微观结构与性能的关键密码

一、引言

1.1研究背景与意义

在材料表面改性技术不断发展的当下，磁控溅射技术凭借独特优势在众多领域广泛应用。磁控溅射是在高真空中，利用荷能粒子轰击靶材，使靶材表面原子或分子逸出并沉积在基片表面形成薄膜的物理气相沉积方法。该技术能精确控制薄膜成分和结构，且具有沉积速率高、膜基结合力强、可制备大面积均匀薄膜等优点，在光学、电子学、机械制造等领域发挥关键作用，如制备光学薄膜、半导体器件电极、刀具涂层等，有力推动了相关产业的发展与创新。

TiN镀层作为一种性能卓越的硬质涂层，具备高硬度、高耐磨性、良好的化学稳定性和低摩擦系数等特性