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文件名称:年产120台半导体级单晶炉(8英寸)生产项目可行性研究报告.docx
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更新时间:2026-03-09
总字数:约5.22万字
文档摘要

年产120台半导体级单晶炉(8英寸)生产项目可行性研究报告

第一章项目总论

项目名称及建设性质

项目名称

年产120台半导体级单晶炉(8英寸)生产项目

项目建设性质

本项目属于新建工业项目,专注于半导体级8英寸单晶炉的研发、生产与销售,旨在填补区域内高端半导体设备制造领域的空白,推动半导体产业链上游设备国产化进程。

项目占地及用地指标

本项目规划总用地面积52000.50平方米(折合约78.00亩),建筑物基底占地面积37440.36平方米;规划总建筑面积61200.60平方米,其中绿化面积3380.03平方米,场区停车场及道路硬化占地面积10850.11平方米;土地综合利用面积51670