零位干涉下共轭差分面形绝对检测技术的深度剖析与应用拓展

一、引言

1.1研究背景与意义

在现代光学系统中，光学面形检测技术扮演着举足轻重的角色，其对于保障光学系统的高性能运行具有关键作用。从高端的投影光刻曝光光学系统，到精密的天文望远镜、先进的激光核聚变装置以及高分辨率的空间光学遥感器等，光学元件的面形精度直接决定了这些系统的成像质量、光束传输特性以及整体性能。例如，在极紫外（EUV）光刻物镜中，面形要求达到均方根（RMS）0.2nm的级别，如此严苛的要求对光学检测技术构成了巨大挑战。

传统的菲索干涉仪和泰曼格林干涉仪进行的是相对检测，测量结果依赖于参考面的精度，而商用参考面面形一般仅