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文件名称:2026年硅片生长过程中热场流场多物理场耦合数值模拟应用.docx
文件大小:30.46 KB
总页数:27 页
更新时间:2026-03-13
总字数:约1.61万字
文档摘要
TOC\o1-3\h\z\u26649硅片生长过程中热场流场多物理场耦合数值模拟应用 2
31350一、引言 2
30672研究背景及意义 2
2786国内外研究现状 3
30455本文研究目的与内容 4
11979二、硅片生长基础知识 5
3914硅片生长原理简介 5
8520热场在硅片生长中的作用 7
11917流场对硅片生长的影响 8
25591三、多物理场耦合数值模拟理论 9
30525物理场耦合概述 9
330数值模拟方法介绍 11
15407热场与流场耦合模型建立 12
21070四、数值模