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化学气相沉积法目录CONTENTS简介原理优缺点应用与展望01020304简介简介气相沉积技术是一种获得薄膜厚度在微米数量级的技术。它是在真空中产生待沉积材料的蒸汽然后将其冷凝于基体材料上，而产生所需要的膜层。按照成膜机理不同分为物理气相沉积（PhysicalVapourDeposition、PVD）和化学气相沉积（ChemicalVaporDeposition、CVD）两种。分类研究进展1949年，使用化学气相沉积法成功的沉积出TiC硬质涂层。1968年，使用化学气相沉积法成功的沉积出TiN、TiC-TiN硬质涂层。80年代以来，美国国家航空与