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文件名称:新技术、新产品、新工艺、新材料.docx
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总页数:9 页
更新时间:2026-03-28
总字数:约3.75千字
文档摘要
新技术、新产品、新工艺、新材料
一、新技术:基于量子点耦合的片上光谱实时校准系统
1.技术背景
传统光谱仪在晶圆级集成时面临三大痛点:波长漂移0.1nm/℃、校准周期72h、占板面积5cm2。量子点(QD)具有尺寸可调发光峰(FWHM15nm)与温度系数低(0.02nm/℃)的天然优势,但单片集成时存在“激发-发射”串扰与载流子淬灭问题。本技术通过“耦合腔+电荷耗尽层”双机制,把QD发光峰锁定在硅基AWG(阵列波导光栅)通带中心,实现片上实时校准。
2.核心原理
(1)耦合腔设计:在SOI晶圆上刻蚀L-Cavity(长度=λ/2n),使QD层位于电场腹点,增强Purcell因子至Fp