2026年电子科学与技术(电子材料与元器件方向)试卷附答案

一、单项选择题（每题2分，共30分）

1.关于硅材料的提纯工艺，目前工业上大规模制备高纯度多晶硅最常用的方法是()

A.区域熔炼法

B.化学气相沉积法

C.直拉法

D.西门子法

答案：D

解析：西门子法是当前工业生产高纯度多晶硅的主流工艺，通过三氯氢硅的氢化还原反应实现硅的提纯，纯度可达99.9999999%以上；区域熔炼法主要用于进一步提纯单晶硅，获得更高纯度的单晶材料；直拉法（Czochralski法）是拉制单晶硅棒的工艺，而非提纯多晶硅；化学气相沉积法（CVD）多用于制备半导体薄膜材料，并非多晶硅提纯的核心方法。

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