基于精准流量控制的气体质量流量控制器自动标定系统构建与应用

一、引言

1.1研究背景与意义

1.1.1气体质量流量控制器的应用现状

气体质量流量控制器（MassFlowController，MFC）作为一种能够精确测量并控制气体质量流量的装置，在众多领域发挥着不可或缺的作用。在半导体制造领域，其对工艺环境控制要求极为严格，MFC用于精确控制各种特种气体的流量，在薄膜沉积工艺中，以硅烷和氧气作为反应气体来生成二氧化硅薄膜，MFC需精确控制两种气体的流量比例，确保薄膜的厚度、成分和质量均匀稳定，从而提升半导体器件的性能和可靠性；在刻蚀过程中，MFC控制反应气体流量，使刻蚀过程按照设