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文件名称:光谱漫反射比副基准--检定系统编制说明.doc
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更新时间:2025-03-18
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文档摘要

JJGXXXX-202X《250nm~16μm漫反射比计量器具检定系统表》(征求意见稿)编制说明

国家计量检定系统表《250nm~16μm漫反射比计量器具检定系统表》(征求意见稿)编制说明

任务来源

本检定系统表的制订工作是按照《国家市场监管总局办公厅“关于已发2024年国家计量技术规范项目制定、修订及宣贯计划的通知”》开展的。

本检定系统表制订完成单位为:中国计量科学研究院。

制订的目的、意义,国内外现状和需求

光800~2000纳米光谱反射比副基准装置建于1986年,经过技术改造技术指标得到提升,2023年经过评审变更为《250nm~16μm光谱漫反射比副基准》,国家光谱漫反射比计量体系进一步完善。谱漫反射是直接支撑光学领域的六个国际关键比对之一的量值,根据基准新的测量能力急需起草相应的检定系统表,进一步理顺国内光谱漫反射比的量值传递和溯源的关系。

光谱漫反射比是支撑光学计量的重要基础性量值之一,广泛应用于光学计量测试、遥感和对地观测、太阳光伏、军事国防等领域。

量值溯源性说明

2024年7月,中国计量科学研究院建立了国家基准:“250nm~16μm光谱漫反射比副基准装置”国基证〔2023〕第166号,实现了光谱漫反射比单位值(1)的量值复现,为光谱漫反射比计量提供了量值溯源的源头。

制定和增减的主要内容

本规范为首次制定。光谱漫反射比计量器具检定系统的主要内容包括:光谱漫反射比副基准计量器具的组成及技术指标、光谱漫反射比标准计量器具的组成及技术指标、工作计量器具的技术指标、光谱漫反射比计量器具检定系统框图。

光谱漫反射比计量器具检定系统规定了光谱漫反射比国家基准的用途,基准所包含的全套基本计量器具,标准的基本组成,工作量程和不确定度要求,规定了不同准确度等级光谱漫反射比测量仪器的量值传递关系。

制定过程

本规范的制定得到了全国光学计量技术委员会的大力支持。2023年8月中国计量科学研究院编制起草“光谱漫反射比计量器具检定系统表”,并报全国光学计量技术委员会立项,2024年8月规范立项获批。

起草单位:中国计量科学研究院

2024年8月23日