金属位取代的二茂金属衍生物光刻胶：合成路径、性能影响与多元应用

一、引言

1.1研究背景与意义

在当今数字化时代，半导体产业作为信息技术的基石，对全球经济和科技发展起着至关重要的推动作用。而光刻胶作为半导体制造过程中的关键材料，其性能和质量直接影响着芯片的性能、成品率及可靠性，在半导体产业中占据着举足轻重的地位。

随着集成电路技术的飞速发展，芯片特征尺寸不断缩小，对光刻技术的要求也日益提高。光刻技术的进步是实现芯片尺寸缩小和性能提升的关键因素之一，而光刻胶作为光刻工艺的核心材料，其性能的优劣直接决定了光刻分辨率和图形转移的精度。自20世纪80年代以来，光刻技术经历了从紫外（UV，G